Abertas inscrições para o concurso NDB (atualizada)

Prazo para os estudantes de Moda de escolas de São Paulo foi prorrogado de 15 para 21 de agosto, com os vencedores sendo escolhidos em desfile durante a feira Go Tex Show.

Foram abertas as inscrições para a primeira edição do concurso Novos Designers Brasil (NDB). O prazo previsto para terminar na sexta-feira, 15 de agosto, foi prorrogado para 21 de agosto. Podem participar estudantes maiores de 18 anos matriculados em cursos superiores de graduação da área de moda e vestuário da cidade de São Paulo. A organização também alterou a data para anunciar os dez finalistas: eles serão conhecidos em 8 de setembro, e não mais no dia 3 de setembro como inicialmente informado. Cada um deles vai desenvolver quatro looks, criados com tecidos fornecidos por tecelagens da China que vão participar da feira Go Tex Show, marcada para o final de outubro, entre os dias 27 e 29, no Expo Center Norte, na capital paulista.

Um desfile das peças no primeiro dia da feira marca a final do concurso, quando será anunciado o vencedor. Nos outros dois dias da feira, os modelos ficarão em exposição. O tema escolhido para os candidatos trabalharem é o Ano Novo Chinês à Brasileira – 2015 o Ano da Cabra. Participam três tecelagens chinesas (Kunshan Huarong, Jiangyin Weipeng e Jiangsu Highhope) e uma taiwanesa (Chain Yarn). O prêmio ao vencedor será uma licença de uso do software de criação Audaces Idea Full, da empresa catarinese Audaces.

Ao abrir espaço para a realização da primeira edição do concurso NDB, os organizadores da feira pretendem “promover o intercâmbio entre jovens designers e os expositores da Go Tex Show” , declara Pan Faming, diretor do Grupo China Trade Center e diretor executivo do comitê organizador do evento, composto ainda pela CCCT (China Chamber of Commerce for Import & Export of Textile and Apparel); pelo CCPIT TEX (The Sub-council of Textile Industry, China Council for The Promotion of International Trade) e pela brasileira FCEM – Feiras, Congressos e Empreendimentos.